首页> 中国专利> 薄膜的形成方法、有机电致发光元件的制造方法、半导体元件的制造方法及光学元件的制造方法

薄膜的形成方法、有机电致发光元件的制造方法、半导体元件的制造方法及光学元件的制造方法

摘要

本发明的目的在于提供一种利用涂布法、使用液状材料,以低成本且简便地在基板上的规定区域图案化形成薄膜的方法,以及使用该方法制造有机电致发光元件、半导体元件、光学元件的方法。本发明的薄膜的形成方法是将含有薄膜形成材料的液状材料(16a)涂布在基板(11)上而于规定区域形成薄膜的方法,该方法包括:对基板(11)进行疏液处理而在基板(11)形成疏液性表面(A)的工序;在基板(11)的疏液性表面(A)图案化形成衬底层(15)的工序,所述衬底层(15)对于液状材料(16a)比所述疏液性表面(A)更具有亲液性;以及在衬底层(15)上涂布液状材料(16a)并使之干燥的工序。

著录项

  • 公开/公告号CN101785363A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-07-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 住友化学株式会社;

    申请/专利号CN200880104014.0

  • 发明设计人 伊藤范人;

    申请日2008-06-27

  • 分类号H05B33/10;H01L21/336;H01L29/786;H01L51/50;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人朱丹

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2023-12-18 00:10:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-09-17

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H05B33/10 申请公布日:20100721 申请日:20080627

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2010-09-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H05B33/10 申请日:20080627

    实质审查的生效

  • 2010-07-21

    公开

    公开

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