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形成铁电体膜的方法、铁电体膜、铁电体器件和液体排出装置

摘要

本发明涉及形成铁电体膜的方法、铁电体膜、铁电体器件和液体排出装置。为了能够在A位掺杂至少5摩尔%的给体离子,在满足式(1)和(2),或式(3)和(4)的条件下,通过溅射技术在面对具有预定组成的靶(T)的基板(20,B)上形成含有式(P):(Pb

著录项

  • 公开/公告号CN101665908A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-03-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 富士胶片株式会社;

    申请/专利号CN200810214850.6

  • 发明设计人 新川高见;藤井隆满;

    申请日2008-09-03

  • 分类号C23C14/08;C23C14/34;B41J2/14;H01L41/22;H01L41/09;H01L41/18;H01L21/316;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人陈平

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2023-12-17 23:35:48

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-09-21

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C14/08 公开日:20100310 申请日:20080903

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-04-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/08 申请日:20080903

    实质审查的生效

  • 2010-03-10

    公开

    公开

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