用于扩大焦深参数工艺窗口的掩膜版、反掩膜版及其曝光方法

摘要

一种用于扩大焦深参数工艺窗口的掩膜版、反掩膜版及其曝光方法，属于光刻技术领域。该发明提出一种在图形稀疏区增加哑元图形使图形稀疏区和图形密集区的图形密度均匀的掩膜版，并以该掩膜版进行第一次曝光；同时提供其相应的用于对哑元图形区域进行补偿曝光的反掩膜版，并以该反掩膜版进行第二次曝光。该掩膜版、反掩膜版及其曝光方法的结合运用，能扩大焦深参数工艺窗口。