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超临界二氧化碳压缩反溶剂沉淀光聚合法

摘要

本发明属于高分子材料领域,具体涉及超临界二氧化碳压缩反溶剂沉淀光聚合法,是环境友好的新型光固化方法。本发明将双官能度或多官能度光活性单体与适当光引发剂及合适的溶剂混合均匀,再向超临界二氧化碳气氛的反应器中同时分别喷射该均匀混合物及二氧化碳气体,光照聚合。通过此方法,可以得到高交联度高分子聚合物,并可实现对聚合物微观形貌的控制。

著录项

  • 公开/公告号CN101555297A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-10-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京化工大学;

    申请/专利号CN200910084912.0

  • 发明设计人 聂俊;孟准;

    申请日2009-05-27

  • 分类号C08F2/48;C08F2/14;

  • 代理机构北京思海天达知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘萍

  • 地址 100029 北京市朝阳区北三环东路15号

  • 入库时间 2023-12-17 22:48:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-08-17

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C08F2/48 公开日:20091014 申请日:20090527

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-12-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-10-14

    公开

    公开

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