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EDTA体系无氰电镀铜液及其使用方法

摘要

本发明提出一种新的EDTA体系无氰电镀铜液及其使用方法,电镀铜液中以乙二胺四乙酸二钠盐或钾盐作为主络合剂,以硫酸铜或碱式碳酸铜作为主盐,氢氧化钠或氢氧化钾作为电镀液pH值的调整剂,以柠檬酸的钠盐或钾盐或者酒石酸钾钠作为辅助络合剂,以硝酸钠或硝酸钾导电盐。还提出了一种无氰电镀铜液的使用方法。本发明镀液配方简单,易于控制和操作,镀液使用温度范围宽,电流效率高,镀层结晶细致,外观色泽好,镀液稳定,均镀和覆盖力强,成本低,废水处理容易。可以代替含有剧毒的氰化电镀铜工艺,作为预镀铜或直接电镀铜使用。

著录项

  • 公开/公告号CN101550570A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-10-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昆明理工大学;

    申请/专利号CN200910094352.7

  • 发明设计人 郭忠诚;徐瑞东;龙晋明;周卫铭;

    申请日2009-04-15

  • 分类号

  • 代理机构昆明正原专利代理有限责任公司;

  • 代理人徐玲菊

  • 地址 650093 云南省昆明市五华区学府路253号

  • 入库时间 2023-12-17 22:48:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-23

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C25D3/38 公开日:20091007 申请日:20090415

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-12-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-10-07

    公开

    公开

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