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补偿亚稳定化合物基异质结双极晶体管

摘要

一种用于通过应变补偿原子种类的取代布置来假晶生长和集成原位掺杂的应变补偿亚稳定化合物基(107)到电子器件(100)如例如SiGe NPN HBT中的方法。本发明也应用于其它电子器件中的应变层,比如MOS应用、竖直薄膜晶体管(VTFT)和各种其它电子器件类型。由SiGe以外的化合物半导体如例如GaAs、InP和AlGaAs形成的异质结和异质结构器件也可顺应于这里描述的有益工艺。

著录项

  • 公开/公告号CN101506943A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-08-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 爱特梅尔公司;

    申请/专利号CN200680050618.2

  • 申请日2006-11-03

  • 分类号H01L21/20;H01L21/36;H01L31/20;

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人孟锐

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-17 22:27:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-23

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/20 公开日:20090812 申请日:20061103

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-10-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-08-12

    公开

    公开

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