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制备非晶硅薄膜的连续式等离子体增强化学气相淀积反应室

摘要

一种制备非晶硅薄膜的连续式等离子体增强化学气相淀积反应室,包括一个由底板和装在该底板上的反应罩组成的圆筒形大反应室,所述大反应室中设有一个入片室和三个结构相同的圆形小反应室,该三个圆形小反应室的轴心线均与大反应室的轴心线平行,且同一水平截面上所述三个圆形小反应室和入片室的圆心到大反应室圆心的距离均相等,该三个圆形小反应室和入片室的圆心分布在所述截面的同一圆周上。它可满足薄膜电池P、I、N层沉积,其结构较简单,适合用于做薄膜电池研制,并能满足小尺寸电池片的生产。

著录项

  • 公开/公告号CN101481795A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-07-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200810143932.6

  • 发明设计人 周大良;刘良玉;

    申请日2008-12-12

  • 分类号C23C16/44;C23C16/24;

  • 代理机构长沙正奇专利事务所有限责任公司;

  • 代理人马强

  • 地址 410111 湖南省长沙市天心区新开铺1025号

  • 入库时间 2023-12-17 22:14:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-23

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C16/44 公开日:20090715 申请日:20081212

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-09-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-07-15

    公开

    公开

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