法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-02-02
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C01F17/00 公开日:20090715 申请日:20090220
发明专利申请公布后的视为撤回
2009-09-09
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-07-15
公开
公开
机译: 高纯二氧化铈磨料的制造工艺以及该工艺获得的高纯二氧化铈磨料的制造工艺
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法