用于调整蚀刻工艺中临界尺寸均匀性的方法

摘要

本发明提供了用于蚀刻布置在基板上的金属材料层以便横贯所述基板形成具有特征所需轮廓和均匀临界尺寸(CD)的特征的方法。在一个实施例中，一种用于蚀刻布置在基板上的材料层的方法包括在蚀刻反应器中提供在基板上布置有金属层的基板，将至少包含含氯气体和钝化气体的气体混合物流入到所述反应器中，所述钝化气体包括氮气和不饱和烃气体，其中所述氮气和所述不饱和烃气体具有在大约1∶3和大约20∶1之间的气体流速比，以及使用从所述气体混合物形成的等离子体来蚀刻所述金属层。