接触孔厚氮化钛膜裂缝的解决方法

摘要

本发明提供一种接触孔厚氮化钛膜裂缝的解决方法。通过改变原来的工艺流程的顺序，在沉积Ti/TiN黏着层之后，先进行快速热处理，然后再沉积第二层TiN，进而沉积金属钨，这样，经过快速热处理以后再沉积的第二层TiN，能够覆盖由于快速热处理导致的厚TiN膜裂缝，使TiN的厚度与原始厚度相当，避免产生由于裂缝导致的侧向侵蚀，这就为后续流程的顺利进行提供了保障，能够有效防止WF6与硅衬底和氧化物发生反应，从而最终保证了晶体的品质。