深背景高陡度荧光滤光片的制造工艺

摘要

本发明属光学滤光片领域，尤其涉及一种深背景高陡度荧光滤光片的制造方法，其以低荧光效应玻璃为镀膜基片，运用离子辅助沉积法进行镀膜；在膜系处理中，其隔离陡度OD0.3到OD5的波长间隔小于10nm，半带宽为15nm～40nm。本发明采用标准的7至9腔带通膜系或单侧陡度极高的非对称型带通膜系。本发明在膜系处理中，其隔离陡度OD0.3到OD5的波长间隔为小于或等于9nm。本发明在荧光滤光片设计制造技术中，采用优化设计的膜系，隔离陡度能够达到OD0.3到OD5波长间隔小于10nm；采用平衡深度衰减测试技术，滤光片的测试背景深度可以达到OD7－8；改善薄膜散射，可以有效提高镀制薄膜的背景与陡度。