公开/公告号CN101404301A
专利类型发明专利
公开/公告日2009-04-08
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院电工研究所;
申请/专利号CN200810224180.6
申请日2008-10-24
分类号H01L31/052;
代理机构北京科迪生专利代理有限责任公司;
代理人关玲
地址 100080 北京市海淀区中关村北二条6号
入库时间 2023-12-17 21:40:45
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-09-28
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L31/052 公开日:20090408 申请日:20081024
发明专利申请公布后的视为撤回
2010-04-07
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/052 申请日:20081024
实质审查的生效
2009-04-08
公开
公开
机译: 用于形成防反射层的含硅组合物,该防反射层用于在形成抗蚀剂图案时控制曝光光的反射,包括硅的抗反射层的基质以及一种制图方法
机译: 具有防反射层的复合材料的制造方法是在透明玻璃基板上涂布多孔性防反射层,并通过红外线照射封闭多孔性防反射层的上表面的细孔。
机译: 用于等离子显示板的平板,具有反射层,该反射层被划分为布置在各个荧光体区下方的反射区,其中一种原色的反射区的平均厚度与另一种颜色的反射区的平均厚度不同