首页> 中国专利> 在p型III-V氮化物材料上制造低电阻率欧姆接触的方法

在p型III-V氮化物材料上制造低电阻率欧姆接触的方法

摘要

本发明的一个实施例提供了一种用于制造具有欧姆接触层的III-V族氮化物结构的方法。该方法包括制造具有p型层的III-V族氮化物结构。该方法还包括在该p型层上沉积欧姆接触层,而不首先对该p型层进行退火。该方法还包括随后在预定的温度下在退火腔室中将该p型层和该欧姆接触层退火预定的时间段,由此在单一的退火工艺中减小该p型层和该欧姆接触层的电阻率。

著录项

  • 公开/公告号CN101378101A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-03-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 晶能光电(江西)有限公司;

    申请/专利号CN200710168023.3

  • 发明设计人 江风益;王立;方文卿;莫春兰;

    申请日2007-11-02

  • 分类号H01L33/00;

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华

  • 地址 330047 江西省南昌市南京东路235号南昌大学北区(材料科学研究所)

  • 入库时间 2023-12-17 21:32:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-25

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L33/00 授权公告日:20100602 终止日期:20181102 申请日:20071102

    专利权的终止

  • 2010-09-29

    发明专利更正 卷:26 号:22 页码:扉页 更正项目:本国优先权号 误:PCT/CN2007/00261.7 正:PCT/CN2007/002617 申请日:20071102

    发明专利更正

  • 2010-06-02

    授权

    授权

  • 2009-04-29

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-03-04

    公开

    公开

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