氧化钌涂层在基体上的沉积

摘要

本发明公开了在制品上产生二氧化钌或类钌金属涂层的CVD法。所述制品优选用作建筑玻璃，并优选具有低辐射和防阳光性能。所述方法包括提供热玻璃基体，所述基体具有待沉积所述涂层的表面。将含钌前体、含氧化合物和任选水蒸气与惰性载气朝向待涂布表面并沿着所述表面，使所述含钌前体和含氧化合物在所述玻璃基体表面上或附近反应形成二氧化钌涂层。