Institute of Engineering and Science Chung Hua University No.707 Sec.2 Wu-Fu Rd. Hsinchu 300 Taiwan;
Department of Mechanical Engineering Chung Hua University No.707 Sec.2 Wu-Fu Rd. Hsinchu 300 Taiwan;
Institute of Engineering and Science Chung Hua University No.707 Sec.2 Wu-Fu Rd. Hsinchu 300 Taiwan Department of Mechanical Engineering Chung Hua University No.707 Sec.2 Wu-Fu Rd. Hsinchu 300 Taiwan;
Hydrous ruthenium oxide; CNT; Cathodic Deposition Method; Atomic Structure;
机译:TiAlN / CrN超晶格结构硬涂层中的局部氧化缺陷,该缺陷是通过在各种基底材料上进行阴极电弧/不平衡磁控管沉积而形成的
机译:高能量机械合金化方法Ti-6Al-4V合金基材对Al-CrMnfecomoW复合涂层的微观结构和氧化行为
机译:通过机械合金化方法对Ti-6Al-4 V合金基质合成的SiCP / Al涂层微观结构,机械性能和抗抗氧化性的影响
机译:通过阴极沉积法对Ti和CNT底物上含水钌氧化物涂层的原子结构
机译:钌和二氧化钌的原子层沉积:新工艺开发,异质结构纳米电极的制造及其在能量存储中的应用。
机译:通过原子层沉积(ALD)法在CR-Ni-Mo钢基材型中获得的ZnO涂层的结构与性质
机译:阴极沉积法用碳纳米管添加剂含碳钌涂层的微观结构研究