法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-05-18
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H02K21/00 公开日:20090225 申请日:20070822
发明专利申请公布后的视为撤回
2009-02-25
公开
公开
机译: 磁控等离子体的磁场发生器,等离子体刻蚀装置和包括该磁场发生器的方法
机译: 用于磁控等离子体的磁场发生器以及包括该磁场发生器的等离子体蚀刻设备和方法
机译: 磁控等离子体的磁场发生器,等离子体刻蚀装置和包括该磁场发生器的方法