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一种适合氮化硅晶须生长的方法

摘要

本发明公开了一种适合氮化硅晶须生长的方法。以合金(铁族)化的硅熔体为溶液,氮气或氨气为反应气,温度在1500-1800℃的范围内,真空度在0.01Pa-10Pa范围内采用溶液法生长氮化硅晶须。本发明生长的Si

著录项

  • 公开/公告号CN101319401A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-12-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江理工大学;

    申请/专利号CN200810062734.7

  • 申请日2008-07-01

  • 分类号C30B29/38;C30B29/62;C01B21/068;

  • 代理机构杭州求是专利事务所有限公司;

  • 代理人林怀禹

  • 地址 310018 浙江省杭州市江干区经济技术开发区白杨街道2号大街5号

  • 入库时间 2023-12-17 21:06:40

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-10-24

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C30B29/38 申请公布日:20081210 申请日:20080701

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-02-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-12-10

    公开

    公开

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