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具有改进气体分布的碎片抑制系统

摘要

本发明涉及一种碎片抑制系统,尤其是用在用于EUV辐射和/或X射线的辐射单元中的系统。该碎片抑制系统包括一种箔捕获装置(11),所述箔捕获装置(11)具有多个允许直路辐射的通道,以及一个或几个用于缓冲气体(7)的气体供应的进给管道(5),所述气体供应提供给所述箔捕获装置。该箔捕获装置具有至少一个延伸分布几个所述通道的内部空间(14),其中所述进给管道向该空间开口。本碎片抑制系统能有效地抑制碎片。

著录项

  • 公开/公告号CN101218543A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-07-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 皇家飞利浦电子股份有限公司;

    申请/专利号CN200680021245.6

  • 发明设计人 G·H·德拉;T·克卢肯;

    申请日2006-06-06

  • 分类号G03F7/20;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人龚海军

  • 地址 荷兰艾恩德霍芬

  • 入库时间 2023-12-17 20:28:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-08-14

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F7/20 申请公布日:20080709 申请日:20060606

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2008-09-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-07-09

    公开

    公开

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