最佳化一集成电路临界尺寸的方法与光罩

摘要

本发明公开了一种最佳化一集成电路的临界尺寸的方法与光罩。该方法包括：提供一使用于该集成电路中的第一光罩，其中该集成电路至少包括一元件区域；提供一第二光罩，该光罩由该第一光罩复制而成，该光罩至少包括该第一光罩的图案；以及使用该第一光罩及该第二光罩对该集成电路执行至少一次微影制程，其中使用该第二光罩最佳化该集成电路的临界尺寸。本发明不被光栅尺寸或元件范围的位置所限制，用于最佳化曝光区域内临界尺寸均匀度。