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AlN/BN超硬纳米结构多层膜及其制备方法

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摘要

本发明涉及一种涂层及其制备方法，所述的AlN/BN纳米多层膜由AlN和BN形成在金属或陶瓷的基体上，为交替沉积纳米量级的多层结构，各层厚度范围是：AlN层厚度为2～6纳米，BN层为0.32～0.74纳米，总厚度为1.0到5.0μm所述的形成在金属或陶瓷的基体上的AlN和BN其制备时，首先将金属或陶瓷基体表面作镜面抛光处理，然后通过在金属或陶瓷的基体上采用纯Al和B靶进行双靶射频反应溅射方法交替沉积AlN层和BN层，通入高纯的Ar和N

著录项

  • 公开/公告号CN101157288A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江苏科技大学;

    申请/专利号CN200710135577.3

  • 发明设计人 许俊华;喻利花;

    申请日2007-11-13

  • 分类号B32B33/00;B32B9/00;C23C14/34;C23C14/02;C23C14/54;

  • 代理机构南京经纬专利商标代理有限公司;

  • 代理人楼高潮

  • 地址 212003 江苏省镇江市学府路江苏科技大学

  • 入库时间 2023-12-17 19:58:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-09-14

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C14/34 公开日:20080409 申请日:20071113

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2008-06-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-04-09

    公开

    公开

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