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高耐热合成高分子化合物以及高耐电压半导体装置

摘要

用合成高分子化合物覆盖宽隙半导体元件的外面。该合成高分子化合物具有三维立体结构,由通过加成反应生成的共价键将第三有机硅聚合物多个连接而构成,所述第三有机硅聚合物是至少一种第一有机硅聚合物和至少一种第二有机硅聚合物通过硅氧烷键(Si-O-Si键)连接而成的,并且,第一有机硅聚合物具有通过硅氧烷键形成的交联结构,第二有机硅聚合物具有通过硅氧烷键形成的线状连接结构。该合成高分子化合物中优选混合有热传导性高的绝缘性陶瓷微粒。

著录项

  • 公开/公告号CN101107293A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-01-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 关西电力株式会社;株式会社艾迪科;

    申请/专利号CN200680003237.9

  • 发明设计人 菅原良孝;东海林义和;

    申请日2006-01-25

  • 分类号C08G77/44;C08L83/10;H01L23/29;H01L23/31;H01L29/744;H01L29/861;H01L31/12;H01L33/00;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人孙秀武

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2023-12-17 19:41:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-23

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C08G77/44 公开日:20080116 申请日:20060125

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-03-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-01-16

    公开

    公开

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