首页> 中国专利> 场效应晶体管、有机薄膜晶体管及有机晶体管的制造方法

场效应晶体管、有机薄膜晶体管及有机晶体管的制造方法

摘要

本发明的目的是提供在有机TFT中,对电子注入效率和空穴注入效率得以改善的电极和有机半导体组合分别进行判别的方法,实现n型沟道FET和p型沟道FET两种FET,进而提供互补型TFT(CTFT)晶体管。为此,推导出通常从电极和有机半导体构成元素的物理常数推导出电极金属-有机半导体界面中真空能级位移Δ的方法。通过电化学手段使电极金属变化,制成可以控制电子注入和空穴注入的电极。通过这些电极来实现n型沟道FET和p型沟道FET两种FET,进而,提供了互补型TFT(CTFT)晶体管。

著录项

  • 公开/公告号CN101106153A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2008-01-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日立制作所;

    申请/专利号CN200710084820.3

  • 申请日2007-02-27

  • 分类号H01L27/28(20060101);H01L21/82(20060101);H01L51/05(20060101);H01L51/30(20060101);H01L51/40(20060101);

  • 代理机构11243 北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人钟晶

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 19:37:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-12-16

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-03-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-01-16

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号