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光活性膜、其制备和用途、及通过照射所述膜制备表面浮雕和光学各向异性结构

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摘要

本发明涉及均匀的光活性膜，所述光活性膜由具有可以经历光反应的残基的聚电解质组成或者包含所述聚电解质，所述聚电解质主要包含根据通式(I)至(IV)中任一个的至少一种结构，即[Pol(R

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2012-01-11

发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G11B7/241 公开日:20071121 申请日:20051208

发明专利申请公布后的驳回
2008-02-06

实质审查的生效

实质审查的生效
2007-11-21

公开

公开

1. 光活性膜、其制备和用途、及通过照射所述膜制备表面浮雕和光学各向异性结构 [P] . 中国专利： CN101076860A . 2007-11-21
2. 成膜材料以及通过辐照所述材料的膜制备表面起伏和光学异向性结构 [P] . 中国专利： CN101031619A . 2007-09-05
3. PHOTOACTIVE FILM, ITS PREPARATION AND USE, AND PREPARATION OF SURFACE RELIEF AND OPTICALLY ANISOTROPIC STRUCTURES BY IRRADIATING SAID FILM [P] . 欧洲知识产权局专利： EP1829035B1 . 2010-07-21

机译：光辐照膜，其制备和使用以及通过辐照所述膜制备表面浮雕和光学各向异性结构
4. PHOTOACTIVE FILM, ITS PREPARATION AND USE, AND PREPARATION OF SURFACE RELIEF AND OPTICALLY ANISOTROPIC STRUCTURES BY IRRADIATING SAID FILM [P] . 欧洲知识产权局专利： EP1829035A2 . 2007-09-05

机译：光辐照膜，其制备和使用以及通过辐照所述膜制备表面浮雕和光学各向异性结构
5. PHOTOACTIVE FILM, ITS PREPARATION AND USE, AND PREPARATION OF SURFACE RELIEF AND OPTICALLY ANISOTROPIC STRUCTURES BY IRRADIATING SAID FILM [P] . 韩国专利： KR20070091615A . 2007-09-11

机译：光辐照膜，其制备和使用以及通过辐照所述膜制备表面浮雕和光学各向异性结构