首页> 中国专利> 自旋势垒增强的双磁致电阻效应元件及使用该元件的磁性存储器

自旋势垒增强的双磁致电阻效应元件及使用该元件的磁性存储器

摘要

本发明揭露了一种提供可用于磁性存储器的磁性元件之方法及系统。该磁性元件包括第一被钉扎层、间隔层、自由层、自旋势垒层及第二被钉扎层。该间隔层为非磁性且驻留于该被钉扎层与该自由层之间。当写电流通过该磁性元件时,可使用自旋转移对自由层进行转换。该自由层驻留于该间隔层与自旋势垒层之间。该自旋势垒层在该自由层与第二被钉扎层之间。该自旋势垒层设置成以减少该自由层阻尼常数的外表面贡献量。一方面,该自旋势垒具有高的面电阻且基本消除了自旋激励感应阻尼。另一方面,该磁性元件亦包括该自旋势垒层与自由层之间的自旋累积层。该自旋累积层具有高导电性,且可有长的自旋扩散长度。

著录项

  • 公开/公告号CN101019190A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2007-08-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 弘世科技公司;

    申请/专利号CN200580014874.1

  • 发明设计人 瓦莱特蒂埃里;

    申请日2005-05-11

  • 分类号

  • 代理机构上海恩田旭诚知识产权代理有限公司;

  • 代理人丁宪杰

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2023-12-17 19:03:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-03-24

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2007-10-10

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-08-15

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号