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用于构图电流垂直平面磁致电阻器件的双研磨工艺

摘要

本发明涉及一种电流垂直平面(CPP)传感器及其制造方法,其防止了由于再沉积材料导致的在势垒/间隔层侧面的电流分流。进行第一离子研磨从而至少去除自由层。可以进行快速掠射离子研磨从而去除累积在自由层和势垒/间隔层侧面的少量再沉积物。然后沉积绝缘层从而在随后的制造期间保护自由层/势垒层的侧面,所述随后的制造可包括定义该传感器的其余部分的其它离子研磨以及去除该其它离子研磨形成的再沉积物的另一掠射离子研磨。这导致传感器在传感器的侧面没有电流分流且没有对传感器层的损伤。

著录项

  • 公开/公告号CN1945870A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2007-04-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日立环球储存科技荷兰有限公司;

    申请/专利号CN200610131732.X

  • 发明设计人 洪英;威普尔·P·贾亚塞卡拉;

    申请日2006-09-29

  • 分类号H01L43/08(20060101);H01L43/12(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人张波

  • 地址 荷兰阿姆斯特丹

  • 入库时间 2023-12-17 18:33:38

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-03-24

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2007-06-06

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-04-11

    公开

    公开

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