公开/公告号CN1945870A
专利类型发明专利
公开/公告日2007-04-11
原文格式PDF
申请/专利权人 日立环球储存科技荷兰有限公司;
申请/专利号CN200610131732.X
发明设计人 洪英;威普尔·P·贾亚塞卡拉;
申请日2006-09-29
分类号H01L43/08(20060101);H01L43/12(20060101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人张波
地址 荷兰阿姆斯特丹
入库时间 2023-12-17 18:33:38
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-03-24
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-06-06
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-04-11
公开
公开
机译: 双磨工艺,用于对垂直于平面(CPP)磁阻器件的电流进行构图,以最大程度地减少势垒短路和势垒损坏
机译: 双磨工艺,用于对垂直于平面(CPP)磁阻器件的电流进行构图,以最大程度地减少势垒短路和势垒损坏
机译: 一种用于制造具有合金的无平行(APF)结构的电流垂直于平面(CPP)磁致电阻(MR)传感器的方法,该合金需要沉积后高温退火