首页> 中国专利> 一种n-硅纳米线/p-导电有机物异质pn结二极管及其制备方法

一种n-硅纳米线/p-导电有机物异质pn结二极管及其制备方法

摘要

本发明公开了一种n-硅纳米线/p-导电有机物异质pn结二极管及其制备方法,该异质pn结二极管是由n型硅片上生长出的硅纳米线和硅纳米线间的缝隙中填充的p型导电有机物组成。该异质pn结二极管的制备方法是首先用无电金属沉积法在n型硅片上生长出硅纳米线,然后用甩胶方法先后将有机聚合物绝缘层和p型导电有机物填充入纳米线间的空隙形成异质pn结或用甩胶方法直接将p型导电有机物填充入纳米间的空隙线形成异质pn结,最后用溅射或热蒸发制作金属电极。这种新型的异质pn结二极管具有较低的正向开启电压和较高的反向击穿电压、较大的正向电流密度,而且其制备方法工艺简单、成本低廉。

著录项

  • 公开/公告号CN1917251A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2007-02-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉大学;

    申请/专利号CN200610124505.4

  • 发明设计人 方国家;程彦钊;李春;

    申请日2006-09-12

  • 分类号H01L51/05;H01L51/40;

  • 代理机构武汉华旭知识产权事务所;

  • 代理人刘荣

  • 地址 430072 湖北省武汉市武昌珞珈山

  • 入库时间 2023-12-17 18:21:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-10-07

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2007-04-18

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-02-21

    公开

    公开

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