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抗蚀材料及使用了该抗蚀材料的图案形成方法

摘要

本发明公开了一种抗蚀材料及使用了该抗蚀材料的图案形成方法。目的在于:能够提高抗蚀图案与被处理膜的附着性,防止图案的形状不良。在衬底101上形成由含有为杂环酮的4-戊烷内酰胺的抗蚀材料构成的抗蚀膜102,接着,通过掩膜104对抗蚀膜102照射曝光光103来进行图案曝光。接着,通过将已被图案曝光的抗蚀膜102显像来形成抗蚀图案102a。

著录项

  • 公开/公告号CN1866129A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-11-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 松下电器产业株式会社;

    申请/专利号CN200610074073.0

  • 发明设计人 远藤政孝;笹子胜;

    申请日2006-04-04

  • 分类号G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/20;H01L21/027;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汪惠民

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2023-12-17 17:55:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-02-02

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/004 公开日:20061122 申请日:20060404

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2008-06-11

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-11-22

    公开

    公开

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