公开/公告号CN1754108A
专利类型发明专利
公开/公告日2006-03-29
原文格式PDF
申请/专利权人 SDC技术-亚洲株式会社;
申请/专利号CN200480005121.X
发明设计人 高桥康史;
申请日2004-02-06
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人刘明海
地址 日本千叶县
入库时间 2023-12-17 17:08:02
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2006-10-25
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-03-29
公开
公开
机译: 进行了低反射处理的物品的制造方法,形成低反射层的溶液以及进行了低反射处理的物品
机译: 进行低反射处理的物品的制造方法,低反射层的形成方法和低反射处理的物品的制造方法
机译: 进行低反射处理的物品的制造方法,低反射层的形成方法和低反射处理的物品的制造方法