首页> 中国专利> 制造已经受低反射处理的制品的方法,形成低反射层的溶液和经受低反射处理的制品

制造已经受低反射处理的制品的方法,形成低反射层的溶液和经受低反射处理的制品

摘要

一种低反射处理的制品制造方法,其中低反射层溶液由混合和反应下列物质得到:(1)二氧化硅微粒,其包括至少一种选自平均粒径为40-1000nm的非聚集的二氧化硅微粒、平均粒径为10-100nm的空心的、非聚集的二氧化硅微粒和平均初级粒径为10-100nm的链状聚集的二氧化硅微粒的二氧化硅微粒,(2)可水解的硅化合物、水和包含用于上述硅化合物的溶剂和水解催化剂的粘合剂溶液,以水解上述硅化合物和(3)加入促进硅烷醇基缩合的固化催化剂,将此低反射层溶液涂布到树脂基体材料上,然后在室温或室温到“基体材料不被破坏的温度”(就热塑性树脂来说为变形温度或更低或就硬化树脂来说为分解温度或更低)范围内反应和固化,形成含有二氧化硅微粒和粘合剂的固体重量比为30∶70到95∶5的低反射层。

著录项

  • 公开/公告号CN1754108A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2006-03-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SDC技术-亚洲株式会社;

    申请/专利号CN200480005121.X

  • 发明设计人 高桥康史;

    申请日2004-02-06

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人刘明海

  • 地址 日本千叶县

  • 入库时间 2023-12-17 17:08:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-10-25

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2006-03-29

    公开

    公开

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