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利用高酸碱值浸润流体的浸润式微影技术的方法与系统

摘要

一种利用高酸碱值浸润流体的浸润式微影技术的方法与系统,该系统包含透镜(lens),用来将一道预设的辐射(radiation)传递至预定的产品基材上。并且一液体(fluid volume)的第一端与此透镜接触,并透过液体的第二端与产品基材接触。该方法包括:放置一基材,该基材上方具有一辐射敏感物质,并使该辐射敏感物质与一液体的第一端接触;放置至少一透镜,使该透镜与该液体的第二端接触;以及提供波长约为或小于248nm的一电磁辐射,并使一预设辐射穿过透镜而传递至一预定基材上。其中此液体具有高于10-7莫耳/公升(mole/l的氢氧根离子(hydroxide ion)莫耳浓度。

著录项

  • 公开/公告号CN1683996A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-10-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 台湾积体电路制造股份有限公司;

    申请/专利号CN200510064380.6

  • 发明设计人 王昭雄;曾鸿辉;

    申请日2005-04-15

  • 分类号G03F7/00;H01L21/027;

  • 代理机构11019 北京中原华和知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人寿宁;张华辉

  • 地址 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号

  • 入库时间 2023-12-17 16:38:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-04-08

    授权

    授权

  • 2005-12-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-10-19

    公开

    公开

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