首页> 中国专利> 位置测量方法、曝光方法、曝光装置、及器件制造方法

位置测量方法、曝光方法、曝光装置、及器件制造方法

摘要

本发明提供一种位置测量方法、曝光方法、曝光装置、及器件制造方法。在该位置测量方法中,用照明光束照明形成于物体上的标记,通过观察系对从该标记发生的光束进行摄像,对该摄像信号进行信号处理,获得与标记的位置相关的位置信息。根据包含于摄像信号中的与包含光量依存成分的噪声相关的信息和该摄像信号进行上述信号处理。结果,即使在摄像信号中包含噪声的场合,也可精度良好地测量标记的位置信息。

著录项

  • 公开/公告号CN1656354A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-08-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社尼康;

    申请/专利号CN03812058.5

  • 发明设计人 小林满;

    申请日2003-06-02

  • 分类号G01B11/00;H01L21/027;G03F9/00;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人许海兰

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-12-17 16:25:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-05-16

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2005-10-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-08-17

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号