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用于在含有硫酸和氢氟酸的抛光浴中抛光玻璃制品时减少和控制形成的六氟硅酸根的方法

摘要

本发明涉及一种用于在含有硫酸和氢氟酸的抛光浴中抛光玻璃制品时减少和控制形成的六氟硅酸根离子的方法,其中将大量的氟化钾、硫酸钾、氟化钠、硫酸钠、或硫酸铝加入抛光浴或硫酸冲洗浴中,从而避免氟离子浓度降低到最佳操作范围以下。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-07-25

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2005-10-26

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-08-31

    公开

    公开

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