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带电粒子束装置、控制方法、基板检查方法及半导体器件制造方法

摘要

本发明提供一种带电粒子束装置,其具备:生成带电粒子束的带电粒子束发生器;生成使上述带电粒子束在外部的基板上成像的透镜场的投影光学系统;围着上述带电粒子束的光轴地配置的偏转器,该偏转器生成对应于上述带电粒子束应入射上述基板的角度其强度在上述光轴方向上变化地形成的偏转场,该偏转场与上述透镜场重叠且使上述带电粒子束偏向并控制朝向上述基板照射的位置。

著录项

  • 公开/公告号CN1645548A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社东芝;

    申请/专利号CN200510002635.6

  • 发明设计人 长野修;

    申请日2005-01-21

  • 分类号H01J37/147;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/66;

  • 代理机构11247 北京市中咨律师事务所;

  • 代理人陈海红;段承恩

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2023-12-17 16:21:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-01

    专利权的转移 IPC(主分类):H01J37/147 登记生效日:20180411 变更前: 变更后: 申请日:20050121

    专利申请权、专利权的转移

  • 2013-03-06

    授权

    授权

  • 2012-11-07

    发明专利公报更正 卷:26 号:32 IPC(主分类):H01J0037147000 更正项目:专利申请公布后的驳回 误:驳回 正:撤销驳回 申请日:20050121

    发明专利更正

  • 2010-08-11

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01J37/147 公开日:20050727 申请日:20050121

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2005-09-21

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-07-27

    公开

    公开

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