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具有独立限位环和多区域压力控制结构的气动隔膜式抛光头及其使用方法

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提供了一种基片平面化装置和方法。所述装置(101)包括支架(202)，其具有用于将基片(230)容纳于其上的板(212)、用于沿预定方向压迫板的第一腔(238)、连接着板(212)的外边缘的垫片(260)、通过垫片(260)连接着板并且与板之间相隔着垫片厚度的膜片(250)、形成在膜片与板之间用于沿另一预定方向压迫板的第二腔(251)。所述方法包括利用第一压力抵靠着抛光垫(226)按压基片(244)的外周边缘，利用第二压力抵靠着抛光垫(226)按压基片(244)的内侧部分。

著录项

公开/公告号CN1638057A

专利类型发明专利
公开/公告日2005-07-13

原文格式PDF
申请/专利权人多平面技术公司;
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申请/专利号CN200410088199.4
发明设计人梶原治郎;格拉尔德·S·莫洛尼;王惠明;戴维·A·汉森;亚历松德多·雷耶斯;
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申请日2001-05-11
分类号H01L21/304;B24B37/04;B24B41/06;B24B49/16;
代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;
代理人刘兴鹏
地址美国加利福尼亚
入库时间 2023-12-17 16:16:48

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2011-07-20

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/304 授权公告日:20081112 终止日期:20100511 申请日:20010511

专利权的终止
2008-11-12

授权

授权
2005-09-07

实质审查的生效

实质审查的生效
2005-07-13

公开

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