法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-02-09
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B49/03 授权公告日:20080206 终止日期:20161220 申请日:20021220
专利权的终止
2010-08-18
专利权的转移 IPC(主分类):B24B49/03 变更前: 变更后: 登记生效日:20100708 申请日:20021220
专利申请权、专利权的转移
2008-02-06
授权
授权
2005-07-27
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-05-25
公开
公开
机译: 通过计算最终抛光步骤的过度抛光时间和/或抛光时间来控制基材的化学机械抛光(CMP)的方法和系统
机译: 通过计算最终抛光步骤的过度抛光时间和/或抛光时间来控制基材的化学机械抛光的方法和系统
机译: 通过计算最终抛光步骤的过度抛光时间和/或抛光时间来控制基材的化学机械抛光的方法和系统