后表面氟化处理的非晶碳薄膜疏水材料的制备方法

摘要

后表面氟化处理的非晶碳薄膜疏水材料的制备方法，涉及一种疏水性薄膜材料的制备方法。针对不能在那些能被氟气氛腐蚀的固体表面直接沉积氟化非晶碳薄膜的问题，本发明提供了一种制备方法，特征在于包括以下步骤：先用常规气相沉积方法在作为基底的惧氟表面上沉积一层非晶碳薄膜，厚度在0.1微米到3微米的范围；然后将基底再放入化学气相表面处理室中，对该表面处理室抽真空后充入氟碳类气体，气压在1~10000Pa的范围内；在基底附近施加射频电磁场使气体产生辉光放电，射频功率密度为2~100W/cm2，基底温度0~500℃，氟化时间10~120分钟。本发明实施例的基底经显微观察均未发现腐蚀，接触角达120°以上。