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负微分电阻场效应晶体管及其电路

摘要

本发明公开了一种改进型负微分电阻场效应晶体管(NDR-FET)。该NDR-FET包括在衬底(可以是硅或SOI)与栅极绝缘层之间的交界面之上或者极靠近该交界面形成的电荷陷获层。这样,可以优化电荷陷阱,以便非常快速陷获和去陷获电荷,因为它们非常靠近热载流子的沟道。NDR-FET还可以替换传统NDR二极管以及存储单元内的类似器件,而且激活仅需要单沟道技术(即代替CMOS)而且还提供低功率的整组逻辑电路。

著录项

  • 公开/公告号CN1618129A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-05-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 普罗格瑞森特技术公司;

    申请/专利号CN02828011.3

  • 发明设计人 金绪杰;

    申请日2002-12-19

  • 分类号H01L29/06;H01L29/94;H01L31/058;H01L31/0328;H01L31/0336;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人付建军

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2023-12-17 16:04:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-10-31

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2005-07-20

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-05-18

    公开

    公开

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