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NEGATIVE DIFFERENTIAL RESISTANCE FIELD EFFECT TRANSISTOR (NDR-FET) amp; CIRCUITS USING THE SAME

机译:负微分电阻场效应晶体管(NDR-FET)和使用相同电路的电路

摘要

An improved negative differential resistance field effect transistor (NDR-FET) is disclosed. The NDR FET includes a charge trapping layer formed at or extremely near to an interface between a substrate (which can be silicon or SOI) and a gate insulation layer. In this fashion, charge traps can be optimized for extremely rapid trapping and de-trapping of charge because they are extremely close to a channel of hot carriers. The NDR-FET is also useable as a replacement for conventional NDR diode and similar devices in memory cells, and enables an entire family of logic circuits that only require a single channel technology (i.e., instead of CMOS) and yet which provide low power.
机译:公开了一种改进的负差分电阻场效应晶体管(NDR-FET)。 NDR FET包括在衬底(可以是硅或SOI)和栅极绝缘层之间的界面处或非常靠近界面处形成的电荷捕获层。以这种方式,可以优化电荷陷阱,因为它们非常靠近热载流子通道,因此可以非常快速地捕获和释放电荷。 NDR-FET还可以替代存储单元中的常规NDR二极管和类似设备,并支持整个逻辑电路系列,这些逻辑电路只需要单通道技术(即代替CMOS),并且提供低功耗。

著录项

  • 公开/公告号EP1464085A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-10-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 PROGRESSANT TECHNOLOGIES INC.;

    申请/专利号EP20020794408

  • 发明设计人 KING TSU-JAE;

    申请日2002-12-19

  • 分类号H01L29/06;H01L29/94;H01L31/058;H01L31/0328;H01L31/0336;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 22:51:15

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