制作晶圆试片的方法及评估光罩图案间迭对位准的方法

摘要

一种评估两光罩间迭对位准的方法。首先，以具有第一光罩图案的第一光罩进行微影制程，以定义蚀刻晶圆而形成第一曝光图案。接着，在晶圆表面覆盖光阻层，并以具有第二光罩图案的第二光罩定义该光阻层而形成第二曝光图案。其次，量测晶圆上的第一曝光图案与第二曝光图案于X方向、Y方向或X与Y方向的偏移值。之后，校正该偏移值的曝光变形值(scaling)与迭对偏移值(overlay offset)以得到第一与第二光罩图案间的迭对位准。最后，判定迭对位准是否合于一定规格。