法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-12-01
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/027 授权公告日:20080625 终止日期:20091026 申请日:20030925
专利权的终止
2008-06-25
授权
授权
2006-04-19
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-09-08
公开
公开
机译: 为电子束曝光和电子束写入创建写入数据的方法,以及为带电束投影微影制造光罩,X射线罩和罩的方法
机译: 电子束聚焦装置和使用其的电子束投影光刻系统
机译: 电子束聚焦装置和使用其的电子束投影光刻系统