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通过照明源优化提供透镜像差补偿的方法和设备

摘要

一种补偿透镜象差的方法,包括步骤:(a)限定一个成本尺度,该成本尺度量化成像系统的成像性能,所述的成本尺度反映了投影透镜的透镜像差对成像性能的影响;(b)限定光源照明轮廓;(c)根据光源照明轮廓估算成本尺度;(d)修正光源照明轮廓,并且根据修正过的光源照明轮廓重新估算成本尺度;和(e)重复步骤(d)直到将成本尺度降到最小。对应于所述最小化成本尺度的光源照明轮廓代表成象装置的最佳照明。

著录项

  • 公开/公告号CN1510520A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2004-07-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML蒙片工具有限公司;

    申请/专利号CN200310123745.9

  • 发明设计人 A·利布岑;

    申请日2003-11-12

  • 分类号G03F7/20;H01L21/027;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人章社杲

  • 地址 荷兰维尔德霍芬

  • 入库时间 2023-12-17 15:22:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-11-18

    发明专利申请公布后的驳回

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2006-01-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-07-07

    公开

    公开

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