公开/公告号CN1510520A
专利类型发明专利
公开/公告日2004-07-07
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML蒙片工具有限公司;
申请/专利号CN200310123745.9
发明设计人 A·利布岑;
申请日2003-11-12
分类号G03F7/20;H01L21/027;
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人章社杲
地址 荷兰维尔德霍芬
入库时间 2023-12-17 15:22:13
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-11-18
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回
2006-01-04
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-07-07
公开
公开
机译: 通过照明源优化提供透镜像差补偿的方法和装置
机译: 通过照明源优化提供透镜像差补偿的方法和装置
机译: 通过照明优化补偿透镜像差的方法和装置