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分划板焦点测量系统和使用多重干涉测量光束的方法

摘要

一个第一组干涉测量束用来确定分划板的图案表面的位置和用于向后夹持到分划板平台上的分划板的分划板焦点平面。一个第二组干涉测量束在Y方向的扫描期间用来确定分划板平台位置的映像。使两组干涉测量束相关,以使分划板焦点平面与分划板平台的映像相关。在到晶片上的分划板的图案表面的图案的曝光期间,信息用来控制分划板平台。

著录项

  • 公开/公告号CN1510525A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2004-07-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML控股股份有限公司;

    申请/专利号CN03155430.X

  • 申请日2003-09-05

  • 分类号G03F9/00;G03F7/20;H01L21/027;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人冯谱

  • 地址 荷兰费尔德霍芬

  • 入库时间 2023-12-17 15:22:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-12-16

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2005-10-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-07-07

    公开

    公开

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