法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-17
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F1/14 授权公告日:20090401 终止日期:20170801 申请日:20020801
专利权的终止
2009-04-01
授权
授权
2004-09-29
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-07-28
公开
公开
机译: 使用光压印平版印刷术制造双镶嵌结构的方法,用于双金属镶嵌结构的压印光刻模具的制造方法,可压印电介质的材料以及用于双金属镶嵌构图的光压印光刻设备
机译: 镶嵌极紫外光刻交替相移光掩模及其制备方法
机译: 使用光压印光刻技术制造双镶嵌结构的方法,用于双金属镶嵌结构的压印光刻模具的制造方法,用于压印电介质的材料以及用于双金属镶嵌图案化的光压印光刻设备