用于高电流密度用途的多层碳基场发射电子装置

摘要

一种电子场发射装置，是通过将基材放入反应器中，加热所述基材并向所述反应器中供入氢和一种浓度约为8－13％含碳气体的混合物，同时向所述基材附近的气体混合物施加能量，持续足够的时间，以生长第一层碳基材料至厚度大于约0.5微米，接着降低所述含碳气体的浓度并继续生长第二层碳基材料，所述第二层较第一层更厚。接着从所述第一层除去基材，并将一个电极涂敷到所述第二层之上。所述装置是独立支撑的，它可作为一种冷阴极用于多种电子装置之中，如阴极射线管、放大器和行波管。基材的表面在所述第一层生长之前可进行图案加工，从而在所述场发射装置上形成一种具有图案的表面。