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高纯镍的制造方法、高纯镍、由该高纯镍构成的溅射靶及通过该溅射靶形成的薄膜

摘要

使用含镍溶液作为电解液进行电解时,将阳极电解液调至pH2-5,在阳极电解液中加入氧化剂将铁、钴、铜等杂质以氢氧化物的形式沉淀,或通过预备电解除去该杂质,或者加入Ni箔通过置换反应除去该杂质这些方法中无论使用一种或组合两种以上除去杂质后,进一步使用过滤器除去杂质,使用除去了杂质后的溶液作为阴极电解液进行电解。本发明涉及使用含镍溶液进行电解精制的简便方法,从含有大量杂质的镍原料有效制造纯度5N(99.999重量%)以上的高纯镍的技术。

著录项

  • 公开/公告号CN1489642A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2004-04-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社日旷材料;

    申请/专利号CN01822541.1

  • 发明设计人 新藤裕一朗;竹本幸一;

    申请日2001-10-22

  • 分类号C25C1/08;

  • 代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王维玉

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-12-17 15:18:03

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-08-16

    发明专利申请公布后的驳回

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2004-06-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-04-14

    公开

    公开

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