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金属熔体中硫磷杂质的去除方法

摘要

本发明涉及一种金属熔体中硫磷杂质的去除方法,其特征是在真空密闭容器系统中,采用直流脉冲电场在液体金属上方形成的氩—氢混合气体的辉光等离子体作用下,使硫磷杂质生成蒸气或气体化合物,被真空系统抽出而脱除;容器内的压力为101-104帕(Pa),直流脉冲的电压为200-1200V范围内,脉冲频率为5Hz-10KHz,氩—氢混合气体的浓度变化范围为0-100%。本发明又提出了一种使金属熔体中脱硫脱磷的专用装置,利用该专用装置可以达到较高的精炼效果及较高的脱硫脱磷效率。

著录项

  • 公开/公告号CN1446929A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2003-10-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海大学;

    申请/专利号CN03115816.1

  • 发明设计人 丁伟中;鲁雄刚;孙铭山;

    申请日2003-03-14

  • 分类号C21C7/00;C21C7/064;C21C7/072;C21C7/10;C22B9/00;C22B9/04;C22B9/05;

  • 代理机构上海上大专利事务所;

  • 代理人王正

  • 地址 200072 上海市闸北区延长路149号

  • 入库时间 2023-12-17 14:57:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2005-07-13

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2004-01-07

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-10-08

    公开

    公开

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