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氧化铟膜的形成方法、具有氧化铟膜的衬底及半导体元件

摘要

在导电衬底上形成氧化铟膜的成膜方法,把所述衬底和相反电极浸入至少包含硝酸盐离子和铟离子的水溶液中,在所述衬底和相反电极之间通电流,由此在所述衬底上形成所述氧化铟膜。利用无电淀积工艺形成氧化铟膜的水溶液,至少包含硝酸盐离子,铟离子和酒石酸盐。利用所述的水溶液,通过无电淀积工艺,在衬底上形成氧化铟膜的成膜方法。利用所述成膜方法,制成半导体元件和光生伏打元件的衬底。

著录项

  • 公开/公告号CN1442882A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2003-09-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 佳能株式会社;

    申请/专利号CN03107359.X

  • 发明设计人 荒尾浩三;中川克已;岩崎由希子;

    申请日1998-10-15

  • 分类号H01L21/00;C23C18/00;

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人王永刚

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2023-12-17 14:57:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-05-17

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2003-12-03

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-09-17

    公开

    公开

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