法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2006-12-27
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
2005-03-30
授权
授权
2003-08-27
实质审查的生效
实质审查的生效
2003-05-07
公开
公开
机译: 电阻材料,形成电阻薄膜的溅射靶材,电阻薄膜和薄膜电阻器以及形成电阻薄膜的溅射靶材的制造方法和电阻薄膜的制造方法
机译: 溅射法制备贵金属靶材的方法及该方法制备的溅射贵金属靶材的方法
机译: 高纯铬,由高纯铬制成的溅射靶材,由高纯铬制成的薄膜通过溅射法制造的薄膜及其制造方法