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张之圣; 白天; 王秀宇;
天津大学电子信息工程学院;
金属膜电阻器; 溅射靶材; 熔炼技术;
机译:高功率脉冲磁控溅射从复合靶材生长的ZrB_2薄膜
机译:磁控溅射三个靶材的高取向Bi(Pb)SrCaCuO超导薄膜
机译:磁控溅射Al2O3陶瓷靶材在不同的射频功率和氩压下通过磁控溅射沉积的Al2O3薄膜的主要性能及其对p型c-Si晶片的钝化作用
机译:共溅射In_2Ga_2ZnO_7和In_2O_3靶材制备的低电阻高透射率铟镓锌氧化物薄膜
机译:使用脉冲激光沉积从多相靶材制造Heusler合金薄膜。
机译:磁控溅射聚合物靶材:从薄膜到非均质金属/等离子聚合物纳米颗粒
机译:高阻高磁化软薄膜的研制及薄膜电感的制作
机译:线性扫描磁控溅射阴极和扫描在线系统,用于无电弧反应沉积和高靶材利用率
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