法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-10-10
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B6/24 授权公告日:20060712 终止日期:20160819 申请日:20020819
专利权的终止
2006-07-12
授权
授权
2003-03-12
公开
公开
机译: 使用相同的和光电熔合布线基板的光偏转元件,光偏转器,二维光学波导元件
机译: 具有对准结构的光波导基板的制造方式以及光电混载基板的制造方式
机译: 用于形成膜的光波导的制造方法,用于形成光波导膜的光波导,光波导,光配线,光电混合基板以及电子设备