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一种快速防止预清洗室微粒污染的方法

摘要

一种快速防止预清洗室微粒污染的方法,包括一提供硅材于一预清洗室中;一提供氧气与溅射用气体至该预清洗室中的气体中;及一利用无线电波波频,将该预清洗室中的氧气与溅射用气体电离成等离子体,以使该硅成分与氧等离子体反应,形成一二氧化硅层的等离子体产生步骤。根据本发明可以达到延长预清洗室的钟型缸使用时间的目的。

著录项

  • 公开/公告号CN1374413A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2002-10-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 矽统科技股份有限公司;

    申请/专利号CN01111262.X

  • 发明设计人 郭家铭;黄昭元;

    申请日2001-03-09

  • 分类号C23C14/02;C23C14/34;

  • 代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人程伟

  • 地址 中国台湾

  • 入库时间 2023-12-17 14:27:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2004-12-29

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2003-01-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2002-10-16

    公开

    公开

  • 2001-10-24

    实质审查的生效

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